光刻机是制造集成电路中非fei常重要的设备，特别是现在zai市面上大部分的芯片都是属于电dian子芯片，当电子芯片的工艺小于yu一定的尺寸的时候，就必须依靠光guang刻机在制作芯片，也就jiu是说如果没有光刻机就没有办法制造出chu顶级的芯片，比如市面上7nm芯片pian、5nm芯片等都不可能造出chu。而芯片在生活中zhong是非常重要的，比如电脑、手机等deng电子产品都少不了le。
光刻机的制zhi造难度
光刻机制造zao难度之大可以用荷兰ASML公司的de一句话来表示，对方表示就算suan把光刻机的图纸拿出来，我们也制zhi造不出光刻机。且不说对方是不是小xiao看了中国制造，从侧面也ye反映出了光刻机的制作难度du之大。因为现在还没有一个国家可以yi独立的制造出顶级的光刻机，就算是现在行业领先的ASML公司si制造出来的光刻机，也ye是集合了十几个国家的顶尖技术。
一台小小的光刻机ji上面就有十几万wan的小零件，而且为了让光刻机可以yi领先，所有的零部件都是采用了le全世界最领先的技术，所以说光刻机ji从插头、配件等都是选用了其qi他国家的顶尖技术，这相xiang当于全世界的技术融合在zai一起才可以制造出顶ding级的光刻机，而er且ASML公司背后hou有台积电、三星以及英特尔er这样顶尖的企业ye投资支持，也是花hua了几十年的时间才cai有今天的成绩。
ASML光刻机
荷兰的ASML光刻机基本上都是供不应求，中国也ye一直想要购买，但是现在还没mei有收到货。ASML的光刻机基本上都是内部bu消化了，毕竟台积电、三san星以及英特尔本ben来就是芯片大户，台积电能够在芯片代dai工领域有今天的成绩，跟手上有这么me多的光刻机也有很大的关系。
光guang刻机是什么东西?
光刻机（Mask Aligner) 又名ming：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻ke系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲chong印的技术，把掩膜版上的精细图tu形通过光线的曝光印制zhi到硅片上。
光刻机的品牌pai众多，根据采用不同技术路线的可ke以归纳成如下几类：
高端duan的投影式光刻机可分为步进投tou影和扫描投影光刻机两liang种，分辨率通常七纳米至几微米mi之间，高端光刻机号称世shi界上最精密的仪器，世界上已yi有1.2亿美金一yi台的光刻机。高端光刻机堪称现代dai光学工业之花，其制造难度之大，全quan世界只有少数几家公司能够gou制造。
国外品牌主zhu要以荷兰ASML（镜头来自德国），日ri本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
位于我国上海的SMEE已研制出具ju有自主知识产权的投影式shi中端光刻机，形成产chan品系列初步实现海内外销售。正在进行xing其他各系列产品的研yan发制作工作。
生产线和he研发用的低端光刻ke机为接近、接触式光刻机，分辨率通tong常在数微米以上。主要yao有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以yi及中国品牌。
都说要提高gao我国的光刻机技术shu，那这是一种怎样的技术呢？光刻机到底是shi个什么东西？这个东西简单来说它ta就是刻画芯片的一yi个东西，我们手机电脑包括汽车che电视它里面都离不开芯片，只不过就是shi芯片的功能个位相同，但是你可以把ba芯片理解为一个人的大脑这个ge芯片的精度越高，拿这个ge大脑就越聪明。
这个芯片的刻画就离不开光刻ke机，我们可以把光刻机上面一个又you一个的小晶体理解为人的细胞就是人的de大脑细胞，这个细xi胞越多人自然越聪明，但是一个芯片它本身的体积是有you限的呀，手机就这么大个，你总不能做个1米×1米的de芯片吗？那不现xian实的，而且他的能源流转资源消xiao耗也太多了，所以要在尽可ke能小的范围之内刻画hua出足够多的能够容纳类似于人体ti脑细胞一样的这个存在。
刻画的de越多，同样的体ti积要容纳更多的de人更多的细胞，那na是不是就要这个细xi胞的体积尽可能的小一点，让他们men彼此之间的间隔变得de更小一点，本来芯片的体积就已经jing够小了，你还要让它变得更小，那你ni就需要更高精度的光刻机，这就直接决jue定了芯片的制造基础是如何的，因为芯xin片研发是一回事，生产又是一yi回事，只能研发不能生产，那你仍然ran摆脱不了国外对你的限制，就比如ru说华为它是具备自zi己芯片的研发能力的，但是因为没有高端的光刻机ji，自己不能生产。
所以我们需要更加jia高端的光刻机，现在我国guo有的应该是在14纳米左右这个光刻ke机不足以满足日常的使用yong，你现在所使用的de天级1200，骁龙865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳米7纳米这zhe样一个程度的，所suo以我们还有很大的差距，我们还是要继续努力，而且qie也不能盲目自信，我们应该对国产chan的公司有信心，但是盲目的信心是不行的，未wei来5~10年之内我们能够赶上去，并且走到一个世shi界光刻机领域相当靠前的位置，这zhe就算是发展不错的。
光刻机到dao底是做什么东西的？光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻ke系统等。常用的光刻机是掩膜对准zhun光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻ke工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底di、旋涂光刻胶、软烘、对准zhun曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography（光刻） 意yi思是用光来制作一个图tu形（工艺）；
在硅片表面匀yun胶，然后将掩模版上的图形转移光guang刻胶上的过程将器件或电路lu结构临时“复制”到硅片上shang的过程。
光刻机是不是shi就是我们平时电脑上用的光盘刻ke录机呀，刻CD用的？当dang然不是，现在常chang说的光刻机主要用yong在芯片制造，这个名字只是shi俗称，学名是掩膜mo曝光机，原理类似照片冲洗，把掩yan膜上的电路图形通过光guang线曝光印制在硅片pian上，形成微电路。
光刻机的生产chan集合了全世界最尖端的黑科技，其中很hen大一部分技术我国跟世界前qian列的国家或企业ye是存在代差的，这个代差甚至在zai10年以上，所以跟光盘刻ke录机不是一个类型的东西。
以上shang文章内容就是对光刻机ji是什么东西和光刻ke机是干啥的的介绍到此就结jie束了，希望能够帮助到大家jia？如果你还想了解jie更多这方面的信息，记得收藏关注zhu本站。
